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EPE/ELITE™ 5401GS/美国陶氏 物性表
规格级别 | 吹塑薄膜,薄膜挤出 | 外观颜色 | |
该料用途 | DOW <br> 美国陶氏 | ||
备注说明 | 加工条件:吹塑薄膜,薄膜挤出。 |
性能项目 | 试验条件[状态] | 测试方法 | 测试数据 | 数据单位 | |
物理性能 | 比重 | ASTMD792 | 0.917 | g/cm³ | |
物理性能 | 熔流率(熔体流动速率)(190°C/2.16kg) | ISO1133 | 1.0 | g/10min | |
薄膜 | 薄膜厚度-经测试 | 51 | µm | ||
薄膜 | 膜刺穿强度2(51µm) | ASTMD5748 | 6.00 | J | |
薄膜 | 膜刺穿力2(51µm) | ASTMD5748 | 80.0 | N | |
薄膜 | 拉伸模量2 | 2%正割,MD:51µm | ISO527-3 | 181 | MPa |
薄膜 | 拉伸模量2 | 2%正割,TD:51µm | ISO527-3 | 204 | MPa |
薄膜 | 拉伸应力2 | MD:屈服,51µm | ISO527-3 | 8.00 | MPa |
薄膜 | 拉伸应力2 | TD:屈服,51µm | ISO527-3 | 9.00 | MPa |
薄膜 | 拉伸应力2 | MD:断裂,51µm | ISO527-3 | 38.0 | MPa |
薄膜 | 拉伸应力2 | TD:断裂,51µm | ISO527-3 | 37.0 | MPa |
薄膜 | 伸长率2 | MD:断裂,51µm | ISO527-3 | 570 | % |
薄膜 | 伸长率2 | TD:断裂,51µm | ISO527-3 | 610 | % |
薄膜 | 落锤冲击2(51µm) | ISO7765-1/B | >850 | g | |
薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度2 | MD:51µm | ASTMD1922 | 780 | g |
薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度2 | TD:51µm | ASTMD1922 | 980 | g |
薄膜 | 始封温度3(51µm) | 内部方法 | 95.0 | °C | |
薄膜 | 薄膜厚度-经测试 | 51 | µm | ||
薄膜 | 膜刺穿强度2(51µm) | ASTMD5748 | 6.00 | J | |
薄膜 | 膜刺穿力2(51µm) | ASTMD5748 | 80.0 | N | |
薄膜 | 拉伸模量2 | 2%正割,MD:51µm | ISO527-3 | 181 | MPa |
薄膜 | 拉伸模量2 | 2%正割,TD:51µm | ISO527-3 | 204 | MPa |
薄膜 | 拉伸应力2 | MD:屈服,51µm | ISO527-3 | 8.00 | MPa |
薄膜 | 拉伸应力2 | TD:屈服,51µm | ISO527-3 | 9.00 | MPa |
薄膜 | 拉伸应力2 | MD:断裂,51µm | ISO527-3 | 38.0 | MPa |
薄膜 | 拉伸应力2 | TD:断裂,51µm | ISO527-3 | 37.0 | MPa |
薄膜 | 伸长率2 | MD:断裂,51µm | ISO527-3 | 570 | % |
薄膜 | 伸长率2 | TD:断裂,51µm | ISO527-3 | 610 | % |
薄膜 | 落锤冲击2(51µm) | ISO7765-1/B | >850 | g | |
薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度2 | MD:51µm | ASTMD1922 | 780 | g |
薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度2 | TD:51µm | ASTMD1922 | 980 | g |
薄膜 | 始封温度3(51µm) | 内部方法 | 95.0 | °C | |
热性能 | 维卡软化温度 | ASTMD1525 | 100 | °C | |
热性能 | 熔融温度 | DSC | 123 | °C | |
光学性能 | 光泽度2(45°,51.0µm) | ASTMD2457 | 64 | ||
光学性能 | 雾度2(51.0µm) | ISO14782 | 13 | % |