规格级别 | 外观颜色 | ||
该料用途 | |||
备注说明 |
性能项目 | 试验条件[状态] | 测试方法 | 测试数据 | 数据单位 | |
物理性能 | 比重 | ASTMD792 | 0.926 | g/cm³ | |
物理性能 | 熔流率(熔体流动速率)(190°C/2.16kg) | ASTMD1238 | 0.85 | g/10min | |
薄膜 | 薄膜厚度-经测试 | 51 | µm | ||
薄膜 | 膜刺穿强度(51µm) | 内部方法 | 6.91 | J | |
薄膜 | 膜刺穿力(51µm) | 内部方法 | 97.0 | N | |
薄膜 | 割线模量 | 2%正割,MD:51µm | ASTMD882 | 277 | MPa |
薄膜 | 割线模量 | 2%正割,TD:51µm | ASTMD882 | 330 | MPa |
薄膜 | 抗张强度 | MD:屈服,51µm | ASTMD882 | 13.9 | MPa |
薄膜 | 抗张强度 | TD:屈服,51µm | ASTMD882 | 14.6 | MPa |
薄膜 | 抗张强度 | MD:断裂,51µm | ASTMD882 | 57.5 | MPa |
薄膜 | 抗张强度 | TD:断裂,51µm | ASTMD882 | 51.9 | MPa |
薄膜 | 伸长率 | MD:断裂,51µm | ASTMD882 | 600 | % |
薄膜 | 伸长率 | TD:断裂,51µm | ASTMD882 | 660 | % |
薄膜 | 落锤冲击(51µm) | ASTMD1709B | 410 | g | |
薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度 | MD:51µm | ASTMD1922 | 560 | g |
薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度 | TD:51µm | ASTMD1922 | 1100 | g |
薄膜 | 始封温度2(51µm) | 内部方法 | 120 | °C | |
薄膜 | 薄膜厚度-经测试 | 51 | µm | ||
薄膜 | 膜刺穿强度(51µm) | 内部方法 | 6.91 | J | |
薄膜 | 膜刺穿力(51µm) | 内部方法 | 97.0 | N | |
薄膜 | 割线模量 | 2%正割,MD:51µm | ASTMD882 | 277 | MPa |
薄膜 | 割线模量 | 2%正割,TD:51µm | ASTMD882 | 330 | MPa |
薄膜 | 抗张强度 | MD:屈服,51µm | ASTMD882 | 13.9 | MPa |
薄膜 | 抗张强度 | TD:屈服,51µm | ASTMD882 | 14.6 | MPa |
薄膜 | 抗张强度 | MD:断裂,51µm | ASTMD882 | 57.5 | MPa |
薄膜 | 抗张强度 | TD:断裂,51µm | ASTMD882 | 51.9 | MPa |
薄膜 | 伸长率 | MD:断裂,51µm | ASTMD882 | 600 | % |
薄膜 | 伸长率 | TD:断裂,51µm | ASTMD882 | 660 | % |
薄膜 | 落锤冲击(51µm) | ASTMD1709B | 410 | g | |
薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度 | MD:51µm | ASTMD1922 | 560 | g |
薄膜 | 埃尔曼多夫抗撕强度 | TD:51µm | ASTMD1922 | 1100 | g |
薄膜 | 始封温度2(51µm) | 内部方法 | 120 | °C | |
热性能 | 维卡软化温度 | ASTMD1525 | 111 | °C | |
热性能 | 溶融温度(DSC) | 内部方法 | 123 | °C | |
光学性能 | 光泽度(45°,50.8µm) | ASTMD2457 | 60 | ||
光学性能 | 雾度(50.8µm) | ASTMD1003 | 13 | % |
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